4月15日，长沙天心经开区展示了一台国产光学直控离子溅射设备，打破目前该领域一直被国外企业所垄断的局面，实现国产离子溅射镀膜机技术研发的重大突破。

长沙天心经开区天心软件产业园企业麓星光电负责人姜海介绍，麓星光电与湖南大学经过两年的艰苦攻关，解决离子溅射镀膜机光控系统和集成难题，研制首台可实现国产替代的设备。

批量化后可以极大提高我国光学薄膜行业的整体水平，对带动光电子行业发展、增强民族光学工业、光学薄膜产业的核心竞争力意义深远。

随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛，国内各行业对真空镀膜设备等需求都在不断增加，行业规模不断攀升。由于下游行业对真空镀膜机的稳定需求以及相关行业的发展，全球真空镀膜机的消费量也呈现上升趋势。

而上文提到的离子溅射镀膜，是物理气相沉积（PVD）镀膜工艺的一种。这种工艺在真空室中进行，用几十电子伏或更高动能的荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够高的能量而溅出进入气相，这种溅出的、复杂的粒子散射过程称为溅射。被轰击的材料称为靶。由于离子易于在电磁场中加速或偏转，因此荷能粒子一般为离子。

离子溅射镀膜用于在工具上沉积复合材料的硬涂层、附着的金属涂层、高密度的光学涂层以及复杂表面上的保形涂层，还可以用于刻蚀、成分分析等。其基本过程如下∶

1、在真空室等离子体中产生正氩离子，并向具有负电位的靶加速；

2、在加速过程中离子获得能量，并轰击靶材料；、

3、离子通过物理过程从靶上撞击出（溅射）原子，靶具有所要求的材料组分；

4、被撞击出（溅射）的原子迁移到基体表面；

5、被溅射的原子在基体表面凝聚并形成薄膜，与靶材料比较，薄膜具有与它基本相同的材料组分；

6、额外材料由真空泵抽走。

 

在设备研发成功之前，离子溅射技术一直被国外长期垄断。如今，有了该设备的技术支持，麓星光电实现了核心光学器件的自主研发，关键设备全部国产化替代。

据介绍，国产化镀膜机的价格远低于进口设备，并可以保证产品的高毛利，其目标客户主要是科研院所。公司业务均有望在今年形成突破，预计到2025年公司营业收入将突破8000万元。公司计划5年内登录科创板，力争建成国际知名、国内先进的红外薄膜领域生产研发基地。

作为一家专注于红外薄膜技术产业化的高科技公司，麓星光电主营业务涵盖光学薄膜、光电仪器和精密设备，产品被广泛应用到5G通讯、半导体、红外探测、红外激光和激光医疗等领域，并解决了我国在上述领域关键器件的技术瓶颈问题。

 

内容来源：iVacuum真空聚焦